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現在、さまざまな半導体処理およびパネルアセンブリ工場のクリーンルームグレードは、ほとんどが1000と100です。数が少ないほど、清潔さが高くなります。
クリーンルーム(クリーンルーム)1000クラスのコンセプトは次のとおりです。1立方フィートあたり1000個以下のダスト粒子。
クリーンルームのクラス100(クリーンルーム)の概念は次のとおりです。1立方フィートあたり100個以下のダスト粒子。
注:各レベルで制御される粒子サイズも異なります。
米国連邦政府[Federal Atandard(FS)209E、1992]が発行した基準によると、クリーンルーム(クリーンルーム)は6つのレベルに分けることができます。レベル1、10、100、1000、10000、および100000です。
クリーンルーム(クリーンルーム)のレベルがダスト粒子の数のみで記述されている場合、ダスト粒子のサイズは0.5 umではなく、クリーンルームレベルは一連の特定で表現する必要があると想定できます。ダスト粒子サイズ。たとえば、レベル10は0.2um(ダストサイズは0.2um以上、密度は75/立方フィート以下です)、レベル1は0.1um(ダストサイズは0.1um、密度は35以下)ピースです)立方フィートあたり)。統合回路製造に必要なクリーンルームは、1000を超える清潔さレベルを持っている必要があります。
September 02, 2024
August 30, 2024
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