ICクリーンルームの設計と建設要件

統合サーキットクリーンルームは、半導体製造プロセスのニーズを満たすクリーンルームです。クリーンルームには、環境の清潔さ、温度と湿度、振動、ESD、およびAMC制御に関する特定の要件があります。他の産業用クリーンルームと比較して、統合されたサーキット製造ダストフリーワークショップには、広い面積、高清浄度、高温および湿度制御の精度などの機能があります。

クリーンルームワークショップの空気循環の特徴によると、クリーンルームは3つのタイプに分けることができます。効率的な空気供給システムを備えた循環エアコン、濡れたシーリングシステムを備えた循環ファン、FFU循環システムです。

最初のフォームは、小規模で低レベルのクリーンルームワークショップのデザインに広く使用されています。大規模で高級なクリーンワークショップには、高い運用コストや過度の宇宙職業などの不利な点があります。

2番目の形式の設計は、統合されたサーキット製造のための大型エリアクリーンルームの高レベルの要件を満たすことができますが、運用コストは高く、クリーンルームの風速、空気量の調整は難しいので、システムのアップグレードは困難です。動作の柔軟性は非常に低いです。

3番目のタイプのFFUサイクルシステムは、動作スペースを節約するだけでなく、高度な清潔さ、安全性、低い運用コスト、および高い運用柔軟性を備えています。生産に影響を与えることなく、いつでもアップグレードおよび調整できます。半導体製造のニーズを満たすために、半導体製造業界のFFU循環システムが徐々に最も重要な浄化設計になりました。

FFU循環システムの特性は次のとおりです。クリーンルーム全体は、静的圧力層、プロセス層、プロセス補助層、復帰空気通路で構成されています。 FFUは循環空気の力を提供し、新鮮な空気と循環風が混合され、超効率のフィルターを介してプロセスに送られます。層とプロセス補助層は、プロセス層に対する負の圧力です。さらに、電力供給、ガスと化学物質の供給、超純水など、IC製造施設向けの補助生産エリアがあります。

統合回路製造には、クリーンルーム環境を制御するためのより厳しい要件があります。プロセスプロセスが異なると、清潔さの要件が異なります。たとえば、フォトリソグラフィにはクラス1の微小環境が必要ですが、化学機械的研削にはクラス1000環境のみが必要です。

さらに、IC製造清潔な植物には、騒音、振動、照明、特に振動制御のための関連する規制と要件があります。これは、クリーンルームの建物構造の設計に必要でなければなりません。

優れたクリーンルームの設計により、エネルギーを節約し、運用コストを削減し、人員投資を削減するだけでなく、生産に安全で信頼できる保証を提供します。 3種類のクリーンシステムの中で、FFUサイクルシステムは、運用コストが最も低く、清潔さと安全性が最も高くなっています。したがって、FFUサイクルシステムは、統合された回路クリーンルームでよく使用されます。清潔さの要件が高いほど、温度と湿度制御の精度が高くなるほど、クリーンルームの投資と運用コストが高くなります。したがって、清潔さや温度と湿度の要件が比較的低い環境では、いくつかの重要なプロセス機器がより高いレベルで配置されています。清潔さまたは温度と湿度の制御エリアは、IC製造クリーンルームの設計傾向です。

統合回路製造は高エネルギーを消費する産業であり、クリーンエアコンシステムのエネルギー消費は30％以上を占めています。したがって、省エネと安全なクリーンルームの設計とさまざまな熱回収設計が、将来の開発方向になります。

統合回路製造技術の継続的なアップグレードにより、主要メーカーがNANO時代に参入しており、統合回路製造の設計と建設は、きれいな植物と省エネの革新を継続的にアップグレードする必要があります。 。

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